仿真例题一:场效应管转移特性及输出特性仿真。
调用仿真软件中 N 沟道 MOS 管的模型并修改参数,令: 本征导电因子 kₚ=40μ A/V²,开
启电压 Vₜh=2V ,沟道宽长比 W/L=40,沟道长度调制因子 λ=0.005 。仿真电路如图 3.6.1 所示。
- 场效应管的转移特性曲线定义为 V_(DS) 是某定值时 I_(D) 与 V_(GS) 的关系曲线。令 V_(DS) = 10V, V_(GS) 从 1V 到 5V 变化,可得到图 3.6.2(a) 所示的转移特性曲线。

- 输出特性曲线是 V_(GS) 固定时 I_(D) 与 V_(DS) 的关系曲线(族)。
特性仿真电路
图 3.6.2(b) 所示的输出特性曲线是分别令 V_(GS)=2.4V 、3V、3.5V、4V、4.5V、5V,并使 V_(DS) 从 0V 到 15V 变化获得。

(a) 转移特性曲线

(b) 输出特性曲线
从转移特性仿真图中可知,开启电压近似为 Vₜh=2V 。从输出特性曲线可以看出,当 V_(GS)=5V 时,可变电阻区与饱和区(恒流区)的分界点对应的 V_(DS) 约为 3V;当 V_(GS)=4V 时,可变电阻区与饱和区(恒流区)的分界点对应的 V_(DS) 约为 2V;当 V_(GS)=3V 时,可变电阻区与饱和区(恒流区)的分界点对应的 V_(DS) 约为 1V。由于设定沟道长度调制因子 λ=0.005 ,曲线略有上翘。分析时若改变 λ 大小,曲线的上翘程度将随之改变。
仿真例题二:晶体管与场效应管差分放大电路的传输特性比较。
仿真中调用库中晶体管 Q2N2222 模型,修改参数 β=100 ,其他参数不变。场效应管模型使用仿真例题一中的参数。仿真参考电路如图 3.6.3 所示。电路中设 V_(DD)=V_(CC)=V_(SS)=V_(EE)=30V, I_(SS)=I_(EE)=2mA, R_(C)=R_(D)=10kΩ, R_(L)=100kΩ 。

(a) 晶体管差分放大电路

(b) 场效应管差分放大电路
图 3.6.3 晶体管及场效应管差分放大电路
通过仿真得到的两个差分放大电路的传输特性曲线如图 6.3.4所示。从传输特性曲线可以看出,晶体管的输入线性区域较小,当 |V_(ID)|<25 mV 时,非线性不是很明显。通过图 3.6.4也可知,晶体管差分放大电路的增益比场效应管差分放大电路的增益大得多。|V_(ID)|<400 mV 时,非线性不是很明显。通过图3.6.4也可知,晶体管差分放大电路的增益比场效应管差分放大电路的增益大得多。
